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合肥科晶程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀GSL-1700X-EV4是一款小型溫控型蒸發(fā)鍍膜儀
更新時間:2024-01-12
合肥科晶程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀 GSL-1700X-EV4
產(chǎn)品概述:
GSL-1700X-EV4是一款小型溫控型蒸發(fā)鍍膜儀,內(nèi)部設有4個蒸發(fā)坩堝,且每個蒸發(fā)坩堝都帶有擋板,多可放置4種不同的蒸發(fā)物料,可在同一氣氛下依次鍍膜,實現(xiàn)多層膜的沉積工藝??沙绦蚩販兀販胤秶?00-1500℃(選用B型熱電偶:1200℃-1700℃),樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
產(chǎn)品結(jié)構(gòu):
石英真空腔體:280mm OD×260mm ID×310mm H,易清洗和放入樣品
安裝有一個2英寸的樣品臺,并且樣品臺可以旋轉(zhuǎn),使所制薄膜達到更好的均勻性
采用鎢絲籃作為發(fā)熱源,高溫度可達到1700℃,并且配用氧化鋁舟,可裝入樣品(僅1600℃以下使用,若蒸發(fā)溫度大于1600℃,樣品應直接放在鎢絲籃中)
精確控溫:可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/-1℃
真空度:10-5Torr(如采用分子泵系統(tǒng))
進氣系統(tǒng)可實現(xiàn)腔體的清洗和反應蒸發(fā)鍍膜
合肥科晶程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀
工作電源:
電壓:AC220V,50/60Hz,單相
功率:1200W,大電流為30A
4蒸發(fā)坩堝,每個容積為3mL。四坩堝可依次進行蒸發(fā),實現(xiàn)多層膜沉積工藝(不能同時蒸發(fā))
采用鎢絲籃作為發(fā)熱源,并且配有的氧化鋁坩堝,熱電偶安裝在坩堝底部,以便于溫度測量和控制
標準采用S型熱偶:工作溫度為200℃-1500℃
可選B型熱電偶:工作溫度為1200℃-1700℃
安裝有一個數(shù)顯的溫度控制器:可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/- 1oC
也可將儀器轉(zhuǎn)換到手動調(diào)節(jié)接狀態(tài),內(nèi)部不安裝熱電偶,直接采用手動調(diào)節(jié)輸出電流大小,發(fā)熱源溫度可高達2000℃,可實現(xiàn)對樣品鍍碳等實驗
儀器中配備4個蒸發(fā)坩堝,每個坩堝均配有2個鎢絲藍加熱元件
樣品臺:
儀器頂部安裝有樣品臺,直徑為Φ50mm
樣品臺可旋轉(zhuǎn)
樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍為:40mm-85mm
樣品厚度監(jiān)測(可選):
腔室內(nèi)可安裝精密的薄膜測厚儀,可點擊圖1&圖2查看詳情。測厚精度可達0.10 ?。測厚儀LED顯示可實現(xiàn):根據(jù)數(shù)據(jù)庫,輸入涂層信息;顯示鍍膜總厚度以及鍍膜速度;可選購反射光譜薄膜測厚儀--TFMS-LD,用于薄膜厚度的檢測
真空系統(tǒng)(選配):
設備上有一KF25接口用于連接真空泵
• 高真空度可達4.0E-6 Torr(采用渦旋分子泵)
• 雙極旋片真空泵或干泵,可使儀器真空腔體的真空度達到10-2Torr
• 真空度達到10-2torr時,可蒸發(fā)一些貴金屬,如金和鉑,也可蒸發(fā)一些有機材料,可選購數(shù)顯防腐真空計PCG-554(測量范圍3.8x10-5 to 1125 Torr.)
• 高真空度可達4.0E-6 Torr(采用渦旋分子泵),此時可蒸發(fā)對氧敏感的材料,如Al. Mg, Li,分子泵上帶有復合真空計(可測量真空度為1.0E-7Torr)
• 可在本公司選購各種真空泵和真空計
進氣口:
進氣接口為1/4NPS,可向真空腔體中通入惰性氣體,對腔體進行清洗,也可通入反應氣體,進行反應蒸發(fā)鍍膜
進氣口安裝有一針閥,用于調(diào)節(jié)進氣流量
耗材:氧化鋁坩堝以及鎢絲藍
產(chǎn)品尺寸:
總體尺寸:550mm L×550mm W×750mm H
石英腔體尺寸:280mm OD×260mm ID×310mm H
質(zhì)量認證:CE認證
產(chǎn)品質(zhì)量:80kg
應用注意事項:
為了獲得高真空度,可采用以下做法
(1)使用前要檢查密封圈和法蘭上是否有異物或劃痕,并用酒精擦洗
(2)抽真空時,用外部加熱裝置將腔體烘烤到200℃,氧化鋁坩堝預加熱到500℃,保持2小時
使用溫度高于1300℃時,保溫時間不可大于1小時,否則會損壞密封圈
當腔體的各閥門關(guān)閉時,請勿開啟升溫程序或手動調(diào)節(jié)電流進行加熱
當儀器正在蒸發(fā)材料時,不可打開泄氣閥或關(guān)閉真空泵,只有當加熱溫度降至100℃時,才可放氣或關(guān)閉真空泵
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